List
Cryster series 800 (Oxide)
Process
Oxide
Applications
QD-OLED
Oxide TFT Backplane
(TV)
Introduction.
Oxide TFT工程装置は、大型ディスプレイ製造工程においてBackplane基板製造のための熱処理工程に特化された装置です。
Technology.
この装置は、酸化物の熱処理工程に特化された装置で、特に第8世代級以上の対面基板を均一にヒートアップできるよう、IPSの独創的なglass in/out Door systems、quartz tube heaterとバッチ構造を適用しており、生産性を高めるべく工程中に基板を即時にローディングできるフラット工程を可能にします。
Features.
1. Glass size：～10.5G 2. Max temperature：～500℃ 3. 対面Glassでも非常に高い温度均一性を維持できる特殊製作された設備構造 4. 高生産性に最適化された特殊Ramp up/down 5. 高純度のスチーム状態を維持できる特殊Torch system(H2 + O2)
